Оглавление:
При ионно плазменном напылении используется высокотемпературная струя, которая и наносит материал на объект. Частицы вещества во время удара деформируются и взаимодействуют с поверхностью основы, таким образом, формируя новое покрытие. Для выполнения процесса используется установка ионно плазменного напыления. С помощью ионно плазменной установки можно:
- наносить покрытия на листовые материалы, на конструкции больших размеров, изделий сложной формы;
- покрывать поверхность материалов различного типа, в том числе тех, которые не могут подвергаться термической обработке;
- наносить вещество равномерным слоем на элементы, имеющие большую площадь, а также на небольшие изделия и их составные части;
- увеличивать толщину или размер элемента, производя восстановительный процесс детали, которая имеет износ;
- достигать высокого уровня автоматизации процесса напыления;
- наносить различные виды металлов, сплавов, оксидов, карбидов, нитридов, боридов, пластмасс и их различных комбинаций;
- выполнять нанесение нескольких слоев, которые будут иметь специальные характеристики;
- выполнять аккуратное нанесение покрытие, которое незначительно деформирует некоторые виды материалов, из которых изготавливается основа;
- выполнять большой объем работы при невысоком значении трудоемкости и энергопотребления;
- улучшать качество покрытия объекта, делая его равномерным, стабильным, плотны, увеличивая износостойкость.
Вакуумное ионно плазменное напыление сегодня является одним из лучших способов наносить покрытие, поскольку с помощью заряженных частиц удобно производить бомбардировку объекта. Ионы легко разгоняются до необходимого значения энергии. В некоторых случаях, когда необходимо выполнить напыление, можно использовать источник ионных пучков, особенность которых является использование ионов, имеющих одинаковую массу и энергию. При этом более популярным методом является газоразрядная плазма. В основе ее действия заложено использование отрицательно заряженной мишени, которая осуществляет вытягивание положительных ионов.
Установки ионно плазменного напыления
Установка ионно-плазменного напыления, как правило, состоит из:
- источника питания;
- газовых баллонов;
- пульта управления;
- камеры, в которое производится напыление;
- порошкового дозатора;
- вытяжного вентилятора;
- плазматрона;
- плазменной струи;
- напыляемого покрытия;
- изделия;
- устройства, использующегося для изменения положения объекта;
- вакуумного или водяного насоса;
- холодильника.
Технология плазменного напыления представляет собой процесс, в ходе которого создается дуга. В этом случае в установке имеется катод и анод, который представлен соплом. В ходе работы происходит горение рабочего газа, и стекание его в виде струи из плазмы. Чаще всего в установках применяется аргон или азот с водородом.
Подача наплавочного порошкового материала происходит в сопло струей посредствам газа, который является транспортирующим инертным газом. Его нагревает плазма, а после этого он с высокой скоростью наносится на материал, чтобы образовать покрытие. Как правило, плазма нагревается до сверхвысоких температур, значение которой может быть выше, чем несколько десятков тысяч градусов Кельвина. Ионно плазменное напыление оборудование чаще всего имеет место при разработке покрытий мелкого и крупного объекта. Это также может быть ионно плазменное напыление наноуглеродных покрытий или ионно плазменное напыление нитрида титана.
